真空电镀设备的发展潜力

    真空电镀设备是指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延等很多种，不过比较常见是蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是通过加热靶材使靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，使其沉降在基片表面，通过进一步的成膜过程形成薄膜。 对于溅射类镀膜，我们可以理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且使其沉积在基片表面，经历进一步成膜过程，最终形成薄膜。两种方式需要在较高真空环境下进行，故叫真空镀膜技术。真空电镀相比传统水电镀，发展潜力好，对环境污染小，成本较低，做出来的产品金属感强，亮度高，为各行业广泛采用。 

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