浅谈离子镀中的薄膜均匀性概念

    真空电镀主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。其中主要思路是分成蒸发和溅射两种。在真空电镀机中，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是指加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。而对于溅射类镀膜，我们可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
      其中在真空电镀行业有一个专业名词，那就是薄膜均匀性概念。其中薄膜均匀性大致可以分为三种，
      1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内；
      2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性；
      3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。

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